大気圧成膜法による酸化物半導体の形成とそのデバイス応用

教授・中村 有水
  • 大学院先端科学研究部 (工学系) 電気電子材料分野
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研究内容

提供できる技術

ミストCVDの技術やノウハウを提供可能です。

応用分野等

主に大気圧における酸化膜の形成に応用でき、低コストでの成膜が可能です。

特許

特許6137668号「酸化亜鉛結晶層の製造方法及び酸化亜鉛結晶層並びにミスト化学気相成長装置」


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